吉致电子JEEZ射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液

产品名称：射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液



产品简介：射频滤波器抛光液适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。

具有高的铜去除速率，碟型凹陷可调，低缺陷等特性。可应用于逻辑芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量产使用。清除集成电路中铜抛光后表面的抛光颗粒和化学物残留，以防铜表面腐蚀，降低表面缺陷。



适用范围：

单晶硅、多晶硅的研磨抛光，存储器制程和背照式传感器(BSI)制程等。可定制选择稳定的选择比，去除速率，对氧化物/氮化物的选择比。硅精抛液系列具有低缺陷的优点。BSI抛光液系列具有理想的硅和二氧化硅去除速率和选择比。涵盖TSV铜/阻挡层Slurry，TSV晶背铜/介质层抛Slurry、TSV晶背硅Slurry、TSV晶背硅/铜Slurry等。具有高去除速率、选择比可调等优点。以及集成电路制造工艺中浅槽隔离的抛光等等。


吉致电子射频滤波器抛光液使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。



吉致电子射频滤波器抛光液储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。



吉致电子射频滤波器抛光液价格：

吉致电子的射频滤波器抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。


无锡吉致电子25年研发生产——射频滤波器抛光液 /半导体抛光液 /CMP抛光液//CMP化学机械抛光液/射频滤波器Slurry/射频滤波器CMP化学机械抛光液Slurry/射频滤波器CMP集成电路抛光液/射频滤波器抛光液抛光浆料Slurry